“芯戰”之不得不知的IP攻防策略之一—集成電路布圖設計

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集成電路的保護是知識產權保護的重要組成部分,但集成電路布圖設計的侵權案件卻相對鮮見。筆者以本案的裁判要旨為論述基礎,通過通讀最高院的裁判要旨,結合日常實務與相關法條對集成電路布圖設計專有權進行層層剖析,揭開我國集成電路布圖設計專有權的神秘面紗,其中,文中多次提到的保護條例為《集成電路布圖設計保護條例》,實施細則為《集成電路布圖設計保護條例實施細則》。

案例詳情
 
主要案情回顧

上訴人深圳裕昇科技有限公司(以下簡稱裕昇公司)、戶財歡、黃建東、黃賽亮與被上訴人蘇州賽芯電子科技有限公司(以下簡稱賽芯公司)侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案(以下簡稱“鋰電池保護芯片”集成電路布圖設計侵權案)中,涉及登記號為BS.12500520.2、名稱為“集成控制器與開關管的單芯片負極保護的鋰電池保護芯片”的集成電路布圖設計(以下簡稱涉案布圖設計)。

賽芯公司認為,型號為JA5088的被訴侵權產品與涉案布圖設計中6個獨創點實質相同,裕昇公司、深圳準芯微電子有限公司(以下簡稱準芯微公司)未經許可,以營利為目的復制、銷售侵權產品,應當承擔停止侵害、賠償經濟損失及維權合理開支的責任。戶財歡是被訴侵權行為發生時準芯微公司的唯一股東,黃建東、黃賽亮從戶財歡處受讓股權,在訴訟期間注銷準芯微公司,均應承擔連帶清償責任,故向廣東省深圳市中級人民法院(以下簡稱一審法院)提起訴訟,請求判令裕昇公司、戶財歡承擔停止侵害并賠償經濟損失的責任,黃建東、黃賽亮對裕昇公司的上述債務承擔連帶清償責任等。

一審法院認為,賽芯公司主張的涉案獨創點具有獨創性,被訴侵權的布圖設計與涉案布圖設計中主張的獨創點相同或實質相同,準芯微公司與裕昇公司構成共同侵權,故判令裕昇公司賠償賽芯公司經濟損失50萬元;戶財歡、黃建東、黃賽亮對上述賠償金額承擔連帶責任。

裕昇公司等不服,向最高人民法院提起上訴,認為不能直接使用樣品的剖片來確定涉案布圖設計的保護范圍,由于紙件不清晰,涉案布圖設計的保護范圍不明確。

最高人民法院于2020年10月16日判決駁回上訴,維持原判。

 

 
裁判意見

最高人民法院二審認為,在樣品與復制件或圖樣的紙件具有一致性的前提下,可以采用對樣品剖片,通過技術手段精確還原出芯片樣品包含的布圖設計的詳細信息,提取其中的三維配置信息,確定紙件中無法識別的布圖設計細節,用以確定布圖設計的內容。

不同于專利法對發明創造采取公開換保護的制度設計,《集成電路布圖設計保護條例》對布圖設計的保護并不以權利人公開布圖設計為條件。國知局在布圖設計的登記審查中,對紙件的要求是至少放大到20倍以上,對電子版本的要求是包含布圖設計的全部信息。登記公告后,公眾可以請求查閱的是紙件,對于已經投入商業利用的布圖設計紙件中涉及的保密信息,除侵權訴訟或行政處理程序的需要,不得查閱或復制;對于電子版本,同樣除侵權訴訟或行政處理程序需要外,任何人不得查閱或復制。

可見,無論在登記過程中還是登記公告后,對含有布圖設計全部信息的電子版本和已投入商業利用的布圖設計紙件中的保密信息均沒有對公眾無條件全部公開的要求。布圖設計的登記是確定保護對象的過程,是獲得布圖設計專有權的條件,而不是公開布圖設計內容的過程,也不是以公開布圖設計為對價而獲得專有權保護。

 

 
裁判要旨

集成電路布圖設計登記旨在確定布圖設計保護對象,而非公開布圖設計內容,故公開布圖設計內容并非取得集成電路布圖設計專有權的條件。

 

集成電路布圖設計專有權及相關問題
Q
什么是集成電路布圖設計專有權?
 

A:集成電路布圖設計專有權是根據《集成電路布圖設計保護條例》對具有獨創性的集成電路布圖設計進行保護的一種知識產權。它與專利權、著作權等一樣,是知識產權的分支。

布圖設計權的保護期限為10年,自布圖設計登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業使用之日計算,以較前日期為準。但是,無論是否登記或投入商業利用,布圖設計自創作完成之日起15年后,不再受到保護。

 

Q
什么是集成電路布圖設計專有權的保護對象?
 

A:結合本案,最高法首先依據保護條例及實施細則中的相關規定,結合司法實踐中的既有審判規則,明確了布圖設計權的保護對象。

保護條例第二條第一項、第二項分布規定了集成電路和集成電路布圖設計的概念,構成了布圖設計專有權保護對象。

集成電路,是指半導體集成電路,即以半導體材料為基片,將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片之上,以執行某種電子功能的中間產品或者最終產品;集成電路布圖設計,是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置,或者為制造集成電路而準備的上述三維配置。

保護條例中第五條規定,對集成電路布圖設計的保護,不延及思想、處理過程、操作方法或者數學概念等。 

根據上述規定,布圖設計應當包含以下內容:兩個以上半導體元件,且至少有一個有源元件;互連線路;元件的大小、位置及其互相的空間位置關系;各互連線路的尺寸大小、位置、走向及其互相的空間位置關系;元件與元件、元件與連線的連接關系等;且在基片上制造的這些元件、連線組成的電路應當能夠執行某種電子功能。進行布圖設計創作是為了制造具有某種電子功能的集成電路產品,設計者根據選定的某種集成電路制造技術、工藝的要求,對制造集成電路中各元件、連線時需要進行技術處理的基片中各相應區域的物理尺寸、空間位置等以圖樣形式進行定義。 

根據保護的程度將保護分為三個層次:

第一層次為僅保護布圖設計;

第二層次為同時保護布圖設計和含有該布圖設計的集成電路;

第三層次為不僅保護布圖設計和含有該布圖設計的集成電路,還保護含前述集成電路的產品。

Q
怎樣才能滿足集成電路布圖設計專有權的保護條件?
 

A:申請布圖設計登記,必須提交布圖設計的復制件或者圖樣,復制件或圖樣是登記授權的必要條件,而復制件或者圖樣的電子版本、集成電路樣品提交與否并不是獲得授權的必要條件。

形式條件:

保護條例第8條規定,布圖設計專有權經國知局登記產生。未經登記的布圖設計不受本條例保護。由此可見,集成電路布圖設計專有權采用的登記保護主義。也就是說,一件集成電路布圖設計要取得專有權,集成電路布圖設計權人須依法向國知局履行登記手續。依法登記是保護布圖設計獲得保護的先決條件。

提交的材料

保護條例第十六條規定,申請布圖設計登記應當提交:(一)布圖設計登記申請表;(二)布圖設計的復制件或者圖樣;(三)集成電路布圖設計未投入商業利用的,提交含有該集成電路布圖設計的集成電路樣品。集成電路布圖設計在申請日之前已投入商業利用的,申請登記時應當提交 4件含有該集成電路布圖設計的集成電路樣品;(四)國知局規定的其他材料。 

登記申請不能超出法定時限

保護條例第十七條規定,布圖設計自其在世界任何地方首次商業利用之日起2年內,未向國知局提出登記申請的,國知局不再予以登記。

實質條件:

從本案中可以了解到:雖然在相關法律中沒有明確規定充分公開這個概念,但從侵權判斷的角度可以推知,要想集成電路布圖設計得到保護,必須充分公開。

充分公開可以參考專利中的相關規定,專利就是以公開換保護,集成電路布圖設計專有權也可以專利的角度進行理解,以有期限的保護換取社會公眾對先進技術的接觸。如果申請人不充分公開其布圖設計即可獲得專有權保護,則勢必不符合相關制度。

另外,集成電路布圖設計的侵權判斷需要比對被控侵權產品的布圖設計與申請登記的布圖設計。若申請登記的布圖設計沒有充分公開,那么侵權判斷將失去比對基礎,權利人也不可能得到任何保護。但是充分公開并不代表著全部公開,在登記時,可以選擇不想公開的部分作為保密信息。

不僅需要滿足充分公開,在保護條例的第四條還規定:受保護的布圖設計應當具有獨創性,即該布圖設計是創作者自己的智力勞動成果,并且在其創作時該布圖設計在布圖設計創作者和集成電路制造者中不是公認的常規設計。

Q
如何確定集成電路布圖設計專有權的保護范圍?
 

A:保護條例第7條規定,布圖設計權利人享有下列專有權:(一)對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創性的部分進行復制;(二)將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業利用。

保護條例第30條規定,除本條例另有規定的外,未經布圖設計權利人許可,有下列行為之一的,行為人必須立即停止侵權行為,并承擔賠償責任:(一)復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創性的部分的;(二)為商業目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。

由上述規定可知,布圖設計權利人對布圖設計的全部或者任何具備獨創性的部分,均享有復制權及商業利用的權利。除保護條例另有規定之外,未經權利人許可,對布圖設計的全部或者任何具備獨創性的部分進行復制或者商業利用,均侵犯權利人的布圖設計專有權。

根據保護條例第7條、第30條第1款第(一)項的規定,布圖設計權利人對布圖設計享有復制權和商業利用的權利,復制受保護的布圖設計的全部或者任何具有獨創性部分的,行為人必須立即停止侵權行為,并承擔賠償責任。

由此可知,布圖設計權利人可以以布圖設計的全部主張其專有權,也可以以其中任何具有獨創性的部分主張其專有權。

因此,確定布圖設計的保護范圍,應當確認以下問題:

(1)應當確定布圖設計專有權的客觀載體;

(2)根據客觀載體載明的布圖設計,結合當事人的主張,確定在具體案件是使用布圖設計的全部、還是使用具有獨創性的部分,作為其權利主張的基礎。

保護條例和《實施細則》都沒有要求布圖設計在登記時應指明其獨創性;因此,根據保護條例第30條的規定,布圖設計中任何具備獨創性的部分都應該得到保護。

保護條例第30條規定了布圖設計權利人的排他性權利,包括復制權和商業利用權。就復制權而言,未經權利人許可,復制得到保護的布圖設計的全部或任何部分都構成侵權,以布圖設計的獨創性部分為限。如果他人復制的是不符合原創性要求的布圖設計部分,則不構成對復制權的侵害。就商業利用權而言,為商業目的進口、銷售或分銷受保護的布圖設計或含有受保護的布圖設計的集成電路或含有集成電路的物品,屬于權利人的排他性權利。

Q
集成電路布圖設計專有權被侵犯怎么辦?
 

A:1、未經集成電路布圖設計權利人許可,使用其集成電路布圖設計,即侵犯集成電路布圖設計專有權,引起糾紛的,由當事人協商解決;

2、不愿協商或者協商不成的,布圖設計權利人或者厲害關系人可以向人民法院起訴,也可以請求國知局處理;

3、處理時,認定侵權行為成立的,可以責令侵權人立即停止侵權行為,沒收、銷毀侵權產品或者物品,當事人不服的,可以自收到處理通知之日起15日內依照《行政訴訟法》向人民法院起訴;侵權人期滿不起訴又不停止侵權行為的,可以請求人民法院強制執行;

4、應當事人的請求,可以就侵權布圖設計專有權的賠償數額進行調解;調解不成的,當事人可以依照《民事訴訟法》向人民法院起訴。

總結
并不是使用了別人的集成電路布圖設計都會侵權,保護條例第23條規定,下列行為可以不經布圖設計權利人許可,不向其支付報酬:(一)為個人目的或者單純為評價、分析、研究、教學等目的而復制受保護的布圖設計的;(二)在依據前項評價、分析受保護的布圖設計的基礎上,創作出具有獨創性的布圖設計的;(三)對自己獨立創作的與他人相同的布圖設計進行復制或者將其投入商業利用的。
由此可知:為了充分發揮集成電路布圖設計保護制度對集成電路行業發展的促進作用,在對集成電路布圖設計進行充分保護的同時,還要對集成電路布圖設計進行一些必要的限制,對布圖設計的限制主要就表現在出現法律法規的特定情形,他人可以不經過權利人的許可而對權利人的集成電路布圖設計進行復制或者進行商業利用而不構成侵權,有以下情形:
合理使用:為個人目的或者單純為評價、分析、研究、教學等目的而復制受保護的布圖設計得,為合理使用,可以不經布圖設計權人的許可,并無需向布圖設計權人支付報酬。
反向工程:在依據前項評價、分析受保護的布圖設計的基礎上,創作出具有獨創性的布圖設計的,可以不經布圖設計權利人許可,不向其支付報酬。但是,反向工程必須滿足以下條件(1)反向工程的直接目的必須是對他人的布圖設計進行分析、評價,用于教學或在他人布圖設計的基礎上創作新的布圖設計;(2)反向工程過程中復制的他人布圖設計不能進行商業利用;(3)利用反向工程創作出的新的布圖設計必須符合獨創性的要求。
反向工程者需要提供證明文件和實驗數據等作為證據,并且不能與被進行反向工程的布圖設計完全相同。
權利窮竭:又稱權利用盡。受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品,由布圖設計權利人或者經其許可投放市場后,他人再次商業利用的,可以不經布圖設計權利人許可,并不向其支付報酬。
善意買主:在獲得含有受保護的布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品時,不知道也沒有合理理由應當知道其中含有非法復制的布圖設計,而將其投入商業利用的,不視為侵權。上述行為人得到其中含有非法復制的布圖涉及的明確通知后,可以繼續將現有的存貨或者此前的訂貨投入商業利用,但應當向布圖設計權利人支付合理的報酬。
強制許可:在國家出現緊急狀態或者非常情況時,或者為了公共利益的目的,或者經人民法院、不正當競爭行為監督檢査部門依法認定布圖設計權利人有不正當競爭行為而需要給予補救時,可以給予使用其布圖設計的非自愿許可。
 
特別聲明:
以上所刊登的文章僅代表作者本人觀點,不代表五洲普華出具的任何形式之法律意見或建議。

 

END

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2022年3月15日 14:42
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